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However, the material can be improved, such as by cutting waste Zhukuai to fine polishing.
不过, 取材可以改良, 比如用废旧竹筷削细抛光即可.
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文章最后讨论了InP材料的腐蚀机理 、 抛光原理及化学反应类型的控制.
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The effects on material removal of MJP Jet Polishing by several parameters were given.
研究了磁射流抛光时几种工艺参数对材料去除的影响.
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实验研究了液体喷射抛光技术的材料去除量分布特征,并利用有限元分析方法,分析了抛光头(液体柱)与工件表面相互作用时流场的分布特点。
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本品中用作高铝耐火材料, 电磁器件以及抛光研磨等制品中的原料.
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树脂结合剂碳化硅磨块在磨削过程中磨削效率高、磨具自锐性好、被加工工件表面不容易烧伤和抛光性能好等加工特性,因此在材料表面加工领域得以广泛应用。
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从实验出发,研究了液体喷射抛光中抛光区的特征及材料的去除机理。
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